Восточно-Европейский журнал передовых технологий » Архив номеров » Volume 1, issue 7 » Публикация

Исследовалось осаждение Ti-Si и Ti-Si-N покрытий, синтезируемых с применением вакуумно-дугового источника фильтрованной плазмы с расходуемым титан-кремниевым катодом. Толщина плёнок и содержание компонентов в них определялись методом рентгено-флюоресцентного анализа. Установлено, что путём регулировки параметров процесса осаждения (давления рабочего газа в реакционном объёме установки, отрицательного потенциала смещения на подложке, напряжённости и формы распределения магнитных полей в плазменном источнике) концентрацию кремния в конденсате можно изменять в широких пределах – от нуля до максимального значения, определяемого его содержанием в катоде