Профиль » Публикация

Аннотация Исследована зависимость интенсивности аналитической линии от толщины и плотности слоя, размещенного на поверхности зеркала-подложки носителя при рентгенофлуоресцентном анализе с полным внешним отражением первичного излучения (РФА-ПВО). Показано, что влияние интерференции падающего и отраженного излучений приводит к немонотонной зависимости интенсивности аналитической линии от толщины слоя и его плотности в тех случаях, когда средняя величина шероховатостей поверхности исследуемого слоя достаточно мала по сравнению с периодом образующейся стоячей волны. Для малых количеств исследуемого вещества, меньших 0,1 мг/кв.м, можно пренебречь влиянием интерференции излучения в тех случаях, когда справедливо представление об анализируемом слое как об однородной шероховатой пленке.