Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 1997-00-00 ОрганизацияМолдавский государственный университет, 277009 Кишенев, Молдавия ЖурналЖурнал Технической Физики

Некоторые особенности процесса рельефообразования на&nbsp;фототермопластических носителях при их применении в&nbsp;двухэкспозиционной интерферометрии

Панасюк Л.М., Чапурин И.В.

Панасюк Л.М., Чапурин И.В. Некоторые особенности процесса рельефообразования на фототермопластических носителях при их применении в двухэкспозиционной интерферометрии // ЖТФ, 1997, том 67, выпуск 8, Стр. 76

Аннотация Рассмотрены основные тенденции развития поверхностного рельефа фототермопластических носителей оптической информации при регистрации на них двухэкспозиционных голографических интерферограмм. Выявлено, что для получения качественных интерферограмм необходимо выбирать такие условия записи (учитывающие состав материала и температуру разогрева термопластического слоя носителя, а также параметры сенсибилизирующего коронного разряда), которые позволяют рассматривать поверхность фототермопластического носителя в эквипотенциальном приближении.