Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 1997-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал Технической Физики


Влияние фокусировки первичных электронов на их отражение от кристалла и оже-эмиссию
Гомоюнова М.В., Пронин И.И.
Гомоюнова М.В., Пронин И.И. Влияние фокусировки первичных электронов на их отражение от кристалла и оже-эмиссию // ЖТФ, 1997, том 67, выпуск 8, Стр. 117
Аннотация В диапазоне энергии первичных электронов 0.6-1.5 кэВ измерены ориентационные зависимости для ряда групп вторичных электронов: квазиупруго рассеянных, неупруго отраженных с возбуждением плазмона и ионизацией остовного уровня M4.5, а также оже-электронов M4.5VV. Данные получены для монокристалла Nb (100) при изменении азимутального угла падения первичного пучка и полном сборе вторичных электронов. Установлена взаимосвязь процессов фокусировки и дефокусировки электронов, проникающих в кристалл вдоль направлений < 110> и < 133>, существенно различающихся плотностью упаковки атомов. Обнаружена и объяснена специфика ориентационного оже-эффекта, обусловленная возникающей вследствие фокусировки вариацией интенсивности потока отраженных электронов. Оценены вклады в угловые зависимости оже-эмиссии и отражения с ионизационной потерей как анизотропии ионизации самого остовного уровня, так и изменения интенсивности обратного рассеяния. Проанализирована возможность использования рассмотренных ориентационных зависимостей для элементно-чувствительного анализа локальной атомной структуры поверхности.
Ключевые слова публикации:
   

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален