Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2000-00-00 ОрганизацияИнститут электрофизики УрО РАН, 620049 Екатеринбург, Россия ЖурналЖурнал Технической Физики

Влияние ударного сжатия твердых диэлектриков на&nbsp;процесс инжекции валентных электронов в&nbsp;сильных электрических полях

Вершинин Ю.Н., Ильичев Д.С., Морозов П.А.

Вершинин Ю.Н., Ильичев Д.С., Морозов П.А. Влияние ударного сжатия твердых диэлектриков на процесс инжекции валентных электронов в сильных электрических полях // ЖТФ, 2000, том 70, выпуск 1, Стр. 85

Аннотация Показано существование зависимости между скоростью импульсного разряда с анода, параметрами ударной волны, напряженностью электрического поля, упругими свойствами и вероятностью ионизации валентной зоны твердых диэлектриков. На примере кристаллов NaCl и KCl проведена количественная оценка этих зависимостей в интервале скоростей разряда 5· 103-106 m/s.