Профиль » Публикация
Опубликовано
2001-00-00
ОрганизацияВоронежский государственный университет, 394693 Воронеж, Россия E-mail: levin@lev.vsu.ru
ЖурналЖурнал Технической Физики
Анализ распределения заряда в диэлектрике МДП структуры по спектральным зависимостям фотоэмиссионного тока
Левин М.Н., Бормонтов Е.Н., Волков О.В., Остроухов С.С., Татаринцев А.В. Анализ распределения заряда в диэлектрике МДП структуры по спектральным зависимостям фотоэмиссионного тока // ЖТФ, 2001, том 71, выпуск 3, Стр. 46
Аннотация
Рассмотрена полевая зависимость фотоэмиссионных токов в МДП структуре при произвольном распределении объемного заряда по толщине диэлектрического слоя. Аналитически установлено, что положение вершины потенциального барьера для фотоэмиттируемых из затвора в диэлектрик МДП структуры электронов определяется производной высоты этого барьера по напряженности внешнего поля. Предложен метод корректного определения профиля объемной плотности заряда в диэлектрике МДП структуры по семейству спектральных характеристик, измеренных при различных напряжениях на затворе. Метод эффективен при исследовании распределения отрицательного заряда в диэлектрических слоях МДП структур.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален