Профиль » Публикация
Опубликовано
2004-00-00
Организация1 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, 194021 Санкт-Петербург, Россия 2 Санкт-Петербургский государственный технологический институт (Технический университет), 190013 Санкт-Петербург, Россия e-mail: alex@mdla
ЖурналЖурнал Технической Физики
Высокоскоростное внедрение в SiC керамику с различной пористостью
Власов А.С., Зильбербранд Е.Л., Кожушко А.А., Козачук А.И., Синани А.Б., Слуцкер А.И., Бетехтин В.И., Орданьян С.С. Высокоскоростное внедрение в SiC керамику с различной пористостью // ЖТФ, 2004, том 74, выпуск 5, Стр. 62
Аннотация
Исследовалась кинетика внедрения удлиненных деформируемых ударников в SiC керамики различной пористости. Внедрение в керамики можно представить как двустадийный процесс. На первой стадии наблюдаются минимальная скорость внедрения и максимальная скорость сокращения длины ударника. Именно эта стадия характеризуется наибольшим сопротивлением керамик внедрению. На второй, квазистационарной, стадии кинетика внедрения в керамику подобна кинетике внедрения в среду, лишенную прочности с преимущественно инерционным сопротивлением внедрению. Показано, что величина сопротивления внедрению на первой стадии коррелирует с твердостью керамики и сильно зависит от ее пористости.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален