Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2004-00-00 Организация1 Институт прикладной физики РАН, 603950 Нижний Новгород, Россия e-mail: verevkin@appl.sci-nnov.ru 2 Институт физики микроструктур РАН, 603950 Нижний Новгород, Россия ЖурналЖурнал Технической Физики

Наноразмерная интерференционная литография с&nbsp;импульсным УФ&nbsp;лазером

Бредихин В.И., Буренина В.Н., Веревкин Ю.К., Кирсанов А.В., Петряков В.Н., Востоков Н.В., Дряхлушин В.Ф., Климов А.Ю.

Бредихин В.И., Буренина В.Н., Веревкин Ю.К., Кирсанов А.В., Петряков В.Н., Востоков Н.В., Дряхлушин В.Ф., Климов А.Ю. Наноразмерная интерференционная литография с импульсным УФ лазером // ЖТФ, 2004, том 74, выпуск 9, Стр. 86

Аннотация Измерены чувствительность и пространственное резрешение фототермического резиста на основе двухслойной пленки металлического индия и полимера. Прямым лазерным воздействием изготовлены двумерные маски, через которые созданы наноразмерные металлические и диэлектрические островки на подложке кремния. Найдены условия получения субмикронных периодических структур на пленках TiO2, нанесенных на стеклянную подложку по золь-гель технологии. Измерены их некоторые оптические характеристики, отмечается возможность использования таких решеток для возбуждения планарных электромагнитных волн.