Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2006-00-00 ОрганизацияИнститут повышения квалификации и переподготовки кадров по новым направлениям развития техники, технологии и экономики Белорусского национального технического университета, 220107 Минск, Белоруссия e-mail: rectorat@ipk.by ЖурналЖурнал Технической Физики

Кинетика решеток заряда в&nbsp;фоторефрактивных кристаллах

Гусак Н.А.

Гусак Н.А. Кинетика решеток заряда в фоторефрактивных кристаллах // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 2, Стр. 96

Аннотация Получены уравнения для концентраций заряда решетки и свободных носителей, порождаемых стоячей световой волной в анизотропном фоторефрактивном кристалле, и найдены их решения. Установлена зависимость величины заряда и электрического поля от ориентации решетки относительно кристаллографических осей среды. Показано, что кинетика решеток заряда определяется разностью двух экспонент с характерными временами, сумму которых можно трактовать как постоянную затухания решетки. Обнаружено существование трех областей значений времени максвелловской релаксации, отличающихся между собой характером поведения этой постоянной. Проанализирована кинетика решеток для некоторых кристаллов. PACS: 81.05.-t