Профиль » Публикация
Опубликовано
1997-00-00
ОрганизацияФизико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
ЖурналЖурнал "Физика Твердого Тела"
Электропроводность гидрогенизированного купрата бария--иттрия и окисленного гидрокупрата при 300--450 K
Байков Ю.М., Никитин С.Е., Степанов Ю.П., Егоров В.М. Электропроводность гидрогенизированного купрата бария--иттрия и окисленного гидрокупрата при 300--450 K // ФТТ, 1997, том 39, выпуск 5, Стр. 823
Аннотация
Электропроводность керамических образцов с общей формулой HxBa2YCu3O7+z измерялась в процессе гидрирования (образования гидрокупрата) и последующего окисления (образования оксигидрокупрата). Гидрокупрат (x>0, -0.1 < z
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален