Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2001-00-00 ОрганизацияСанкт-Петербургский государственный технологический институт, 198013 Санкт-Петербург, Россия E-mail: belyaev@tu.spb.ru ЖурналЖурнал "Физика Твердого Тела"

Механизмы гетероэпитаксиального роста тонких пленок теллурида кадмия в&nbsp;тепловом поле градиента температуры &nbsp;&nbsp;

Беляев А.П., Рубец В.П., Нуждин М.Ю., Калинкин И.П.

Беляев А.П., Рубец В.П., Нуждин М.Ю., Калинкин И.П. Механизмы гетероэпитаксиального роста тонких пленок теллурида кадмия в тепловом поле градиента температуры    // ФТТ, 2001, том 43, выпуск 4, Стр. 745

Аннотация Приведены результаты исследований процессов формирования пленок теллурида кадмия при конденсации из паровой фазы на подложку, вдоль которой приложено тепловое поле градиента температуры. Представлены результаты технологических, геометрических, электронографических и электронно-микроскопических исследований. Установлено, что тепловое поле градиента температуры изменяет продолжительность стадии оствальдовского созревания (ОС) и при определенных условиях способствует повышению совершенства формирующейся структуры. Выявлен механизм действия теплового поля на ОС. Продемонстрировано согласие с современной теорией формирования пленок. Работа выполнена при финансовой поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 99-03-32676).