Профиль » Публикация
Опубликовано
2006-00-00
Организация* Институт проблем машиноведения Российской академии наук, 199178 Санкт-Петербург, Россия ** Санкт-Петербургский государственный университет, 198504 Санкт-Петербург, Россия *** Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе
ЖурналЖурнал "Физика Твердого Тела"
Дефекты иотслаивание аморфных нанопленок откристаллических подложек
Бобылев С.В., Овидько И.А., Романов А.Е., Шейнерман А.Г. Дефекты иотслаивание аморфных нанопленок откристаллических подложек // ФТТ, 2006, том 48, выпуск 2, Стр. 248
Аннотация
Теоретически исследованы условия отслаивания аморфной нанопленки от кристаллической подложки. Теоретический анализ проведен с помощью представлений дисклинационно-дислокационной модели межфазной границы \glqq кристалл--стекло\grqq, в рамках которой такая межфазная граница характеризуется высокой плотностью дисклинаций и дислокаций. Получен критерий отслаивания аморфной нанопленки от кристаллической подложки. Рассчитана зависимость критической толщины нанопленки (при превышении которой начинается ее отслаивание) от характеристик дисклинационно-дислокационной системы и дилатационного несоответствия. Работа выполнена при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 04-01-00211), ИНТАС (грант N 03-51-3779), программы РАН \glqq Структурная механика материалов и элементов конструкций\grqq, программ развития потенциала высшей школы и физики твердотельных наноструктур Министерства образования и науки РФ, Санкт-Петербургского научного центра РАН, Офиса морских исследований США (Office of US Naval Research, грант N 00014-05-1-0217) и Фонда содействия отечественной науке. PACS: 62.20.Mk, 62.25.+g
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален