Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2006-00-00 Организация* Институт проблем машиноведения Российской академии наук, 199178 Санкт-Петербург, Россия ** Санкт-Петербургский государственный университет, 198504 Санкт-Петербург, Россия *** Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе ЖурналЖурнал "Физика Твердого Тела"


Дефекты иотслаивание аморфных нанопленок откристаллических подложек
Бобылев С.В., Овидько И.А., Романов А.Е., Шейнерман А.Г.
Бобылев С.В., Овидько И.А., Романов А.Е., Шейнерман А.Г. Дефекты иотслаивание аморфных нанопленок откристаллических подложек // ФТТ, 2006, том 48, выпуск 2, Стр. 248
Аннотация Теоретически исследованы условия отслаивания аморфной нанопленки от кристаллической подложки. Теоретический анализ проведен с помощью представлений дисклинационно-дислокационной модели межфазной границы \glqq кристалл--стекло\grqq, в рамках которой такая межфазная граница характеризуется высокой плотностью дисклинаций и дислокаций. Получен критерий отслаивания аморфной нанопленки от кристаллической подложки. Рассчитана зависимость критической толщины нанопленки (при превышении которой начинается ее отслаивание) от характеристик дисклинационно-дислокационной системы и дилатационного несоответствия. Работа выполнена при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 04-01-00211), ИНТАС (грант N 03-51-3779), программы РАН \glqq Структурная механика материалов и элементов конструкций\grqq, программ развития потенциала высшей школы и физики твердотельных наноструктур Министерства образования и науки РФ, Санкт-Петербургского научного центра РАН, Офиса морских исследований США (Office of US Naval Research, грант N 00014-05-1-0217) и Фонда содействия отечественной науке. PACS: 62.20.Mk, 62.25.+g
Ключевые слова публикации:
       

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален