Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2006-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им.&nbsp;А.Ф.&nbsp;Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия * Институт физики твердого тела Дрезденского технического университета, 01309 Дрезден, Германия ** Научно-исследовательский институт физи ЖурналЖурнал "Физика Твердого Тела"

Применение синхротронного излучения дляисследования механизма увеличения выхода ионов щелочных металлов приэлектронно-стимулированной десорбции

Агеев В.Н., Потехина Н.Д., Пронин И.И., Соловьев С.М., Вялых Д.В., Молодцов С.Л.

Агеев В.Н., Потехина Н.Д., Пронин И.И., Соловьев С.М., Вялых Д.В., Молодцов С.Л. Применение синхротронного излучения дляисследования механизма увеличения выхода ионов щелочных металлов приэлектронно-стимулированной десорбции // ФТТ, 2006, том 48, выпуск 4, Стр. 742

Аннотация Фотоэлектронная спектроскопия остовных уровней с использованием синхротронного излучения (hnu=140 eV) применена для изучения изменения зарядового состояния ионов Si+ в пленках кремния, осажденных на поверхность грани W(100), после термического отжига подложки. Исследования проводились с целью проверки механизма резкого увеличения выхода ионов Na+ при электронно-стимулированной десорбции (ЭСД) из слоя натрия, адсорбированного на поверхноcти Si/W(100), после ее выскотемпературного отжига. Изучена эволюция спектров W4f7/2 и Si2p и спектров валентной зоны при двух степенях покрытия кремнием (1 и 3 ML) грани W(100) в температурном интервале 300