Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 1997-00-00 ОрганизацияИнститут прикладных проблем механики и математики Национальной академии наук Украины, 290601 Львов, Украина ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Численное моделирование явления нестабильности микроплазмы
Дацко Б.И.
Дацко Б.И. Численное моделирование явления нестабильности микроплазмы // ФТП, 1997, том 31, выпуск 2, Стр. 186
Аннотация Основные особенности явления протекания тока в виде микроплазменных импульсов подтверждены численным моделированием предложенной математической модели. Показано, что микроплазма может спонтанно возникать при наличии в области пространственного заряда p-n-структуры локальной неоднородности, а возрастание температуры структуры в результате джоулева разогрева--- приводить к подавлению микроплазмы. Численно изучены кинетика микроплазменных импульсов, их форма и длительность в зависимости от приложенного напряжения и параметров полупроводниковой структуры.
Ключевые слова публикации:
     

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален