Профиль » Публикация
Опубликовано
1997-00-00
ОрганизацияИнститут прикладных проблем механики и математики Национальной академии наук Украины, 290601 Львов, Украина
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Численное моделирование явления нестабильности микроплазмы
Дацко Б.И. Численное моделирование явления нестабильности микроплазмы // ФТП, 1997, том 31, выпуск 2, Стр. 186
Аннотация
Основные особенности явления протекания тока в виде микроплазменных импульсов подтверждены численным моделированием предложенной математической модели. Показано, что микроплазма может спонтанно возникать при наличии в области пространственного заряда p-n-структуры локальной неоднородности, а возрастание температуры структуры в результате джоулева разогрева--- приводить к подавлению микроплазмы. Численно изучены кинетика микроплазменных импульсов, их форма и длительность в зависимости от приложенного напряжения и параметров полупроводниковой структуры.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален