Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 1997-00-00 ОрганизацияКазанский физико-технический институт им. Е.К.Завойского Российской академии наук, 420029 Казань, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Аномальное распределение атомов железа при одновременной имплантации ионов Co+ и Fe+ в кремний

Гумаров Г.Г., Петухов В.Ю., Жихарев В.А., Шустов В.А., Хайбуллин И.Б.

Гумаров Г.Г., Петухов В.Ю., Жихарев В.А., Шустов В.А., Хайбуллин И.Б. Аномальное распределение атомов железа при одновременной имплантации ионов Co+ и Fe+ в кремний // ФТП, 1997, том 31, выпуск 6, Стр. 719

Аннотация Обнаружено аномальное двугорбое распределение атомов Fe по глубине при одновременной имплантации ионов Fe+ и Co+ в Si при невысоких плотностях ионного тока (j=< 10 мкА/см2) и соотношении ионов железа и кобальта в пучке 1 : 3. Образование такого профиля происходит при условии, что время диффузии атомов железа к стокам (поверхности и области линейных дефектов в глубине образца) становится меньше эффективного времени силицидообразования.