Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 1997-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Особенности структуры пленок аморфного гидрированного кремния, осажденных методом разложения силана на постоянном токе вмагнитном поле

Голикова О.А., Кузнецов А.Н., Кудоярова В.Х., Казанин М.М.

Голикова О.А., Кузнецов А.Н., Кудоярова В.Х., Казанин М.М. Особенности структуры пленок аморфного гидрированного кремния, осажденных методом разложения силана на постоянном токе вмагнитном поле // ФТП, 1997, том 31, выпуск 7, Стр. 816

Аннотация Приводятся данные о содержании водорода и различных формах его связи с кремнием в пленках a-Si : H, осажденных методом разложения силана на постоянном токе в магнитном поле (MASD), в зависимости от условий осаждения: температуры, давления смеси 25% SiH4+75% Ar, скорости прокачки, введения в разрядную камеру сетки. Установлены корреляции между величиной фотопроводимости и особенностями структуры пленок.