Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 1998-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Особенности релаксации электрического поля в высокоомных сильно смещенных МДПДМ структурах с глубокими примесными уровнями
Резников Б.И.
Резников Б.И. Особенности релаксации электрического поля в высокоомных сильно смещенных МДПДМ структурах с глубокими примесными уровнями // ФТП, 1998, том 32, выпуск 2, Стр. 203
Аннотация Численно исследована релаксация поля и тока при выключении сильно поглощаемого света в высокоомной структуре металл--диэлектрик--полупроводник (МДПДМ), содержащей значительную концентрацию глубоких примесных уровней. Установлено, что зависимость распределения поля от времени определяется соотношением времен тепловой генерации примесью электронов taun и дырок taup. В случае taun>> taup изменение поля в толще полупроводника немонотонно со временем. Дрейф фотогенерированных носителей после прекращения освещения приводит к образованию области отрицательного объемного заряда повышенной плотности и значительному росту поля вблизи анода. Его максимальная величина достигает 5/6значений среднего поля Ee=V/d. Учет дополнительной инжекции дырок с анода приводит к возрастанию тока, ограничению максимума поля у анода и заметному ускорению релаксации поля к темновому распределению.

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален