Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 1998-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им, А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Гамма-индуцированные метастабильные состояния легированного аморфного гидрированного кремния

Аблова М.С., Куликов Г.С., Першеев С.К.

Аблова М.С., Куликов Г.С., Першеев С.К. Гамма-индуцированные метастабильные состояния легированного аморфного гидрированного кремния // ФТП, 1998, том 32, выпуск 2, Стр. 245

Аннотация Исследована температурная зависимость электропроводности легированныхB иP пленок a-Si :H до и после gamma-облучения от источника 60Co. Доза облучения составляла 1017-1018 фот/см2. Обнаружено существенное различие в поведении пленок n- и p-типа. Электропроводность пленок p-типа слабо (в2--3раза) увеличивается, а электропроводность пленок n-типа резко (на2--3порядка) уменьшается. Наблюдаемое различие объясняется разным характером перераспределения зарядов на оборванных кремниевых связях D+ иD- под влиянием gamma-облучения. Сопоставление полученных результатов с литературными данными позволяет сделать заключение об индуцировании gamma-квантами метастабильных состояний a-Si : H, которые обусловлены движением связанного водорода.