Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 1998-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Эффект Стаблера--Вронского в зависимости от положения уровня Ферми и структуры нелегированного аморфного гидрированного кремния

Голикова О.А., Казанин М.М., Кудоярова В.Х.

Голикова О.А., Казанин М.М., Кудоярова В.Х. Эффект Стаблера--Вронского в зависимости от положения уровня Ферми и структуры нелегированного аморфного гидрированного кремния // ФТП, 1998, том 32, выпуск 4, Стр. 484

Аннотация Проведены исследования скорости деградации фотопроводимости gamma (sigmaph~ t-gamma) пленок нелегированного аморфного гидрированного кремния, осажденных при Ts=300-400oC и подвергнутых засветке в течение 5 ч при 300 K (источник света 100 мВт/см2, lambda