Профиль » Публикация
Опубликовано
1999-00-00
ОрганизацияФизико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
О влиянии уровней захвата на токоперенос вструктурах Pd--p(n)-CdTe
Слободчиков С.В., Салихов Х.М., Руссу Е.В. О влиянии уровней захвата на токоперенос вструктурах Pd--p(n)-CdTe // ФТП, 1999, том 33, выпуск 4, Стр. 492
Аннотация
Исследованы вольт-амперные характеристики и фотоэдс структур Pd--p(n)-CdTe и изменение их при импульсном воздействии водорода. Показано, что токоперенос в структурах Pd--n-CdTe [I~ exp(alpha V)] связан с двойной инжекцией носителей при их захвате на однородно распределенные по энергии уровни ловушек. Для структур Pd--p-CdTe важен полупроводниковый режим двойной инжекции с I~ V2. Серия глубоких уровней захвата, в том числе в интервале 0.75/ 0.83 эВ, ответственна за длительный процесс релаксации фотоэдс и темнового тока после импульса потока H2.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален