Профиль » Публикация
Опубликовано
2000-00-00
ОрганизацияКиевский университет им. Тараса Шевченко (Физический факультет),252022 Киев, Украина
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Образование поверхностного упрочненного слоя вбездислокационном кремнии при ультразвуковой обработке
Островский И.В., Стебленко Л.П., Надточий А.Б. Образование поверхностного упрочненного слоя вбездислокационном кремнии при ультразвуковой обработке // ФТП, 2000, том 34, выпуск 3, Стр. 257
Аннотация
Изучено влияние ультразвуковой обработки на микропластические свойства приповерхностной области бездислокационного кремния. Исследования проводились на искусственно введенных дислокационных розетках. Использовался кремний p-типа с ориентацией поверхности[111]. Обнаружено, что ультразвуковая обработка приводит к образованию приповерхностного упрочненного слоя толщиной до 100 мкм и выходу на поверхность скоплений точечных дефектов типа вакансионных и вакансионно-примесных кластеров. Обсуждается возможный механизм наблюдаемых явлений.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален