Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2000-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Пленки аморфного бора сповышенной электропроводностью

Голикова О.А.

Голикова О.А. Пленки аморфного бора сповышенной электропроводностью // ФТП, 2000, том 34, выпуск 3, Стр. 369

Аннотация Представлены результаты исследований электрических свойств наноструктурированных пленок аморфного бора a-B в сравнении с результатами, полученными для объемных образцов того же материала, а также для кристаллов некоторых "аморфноподобных" боридов со сложной икосаэдрической структурой. Предлагаются модели, объясняющие повышенную электропроводность пленок a-B.