Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2000-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Влияние нанокристаллических включений на фоточувствительность пленок аморфного гидрированного кремния

Голикова О.А., Казанин М.М.

Голикова О.А., Казанин М.М. Влияние нанокристаллических включений на фоточувствительность пленок аморфного гидрированного кремния // ФТП, 2000, том 34, выпуск 6, Стр. 762

Аннотация Проведены исследования фоточувствительности пленок аморфного гидрированного кремния, содержащие включения нанокристаллов Si. Установлена корреляция фоточувствительности с особенностями рамановских спектров и исследованы спектральные характеристики фотопроводимости. Показано, что максимальной фоточувствительностью обладают пленки с наиболее сформированным средним порядком в их структуре.