Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2000-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия * Санкт-Петербургская государственная педиатрическая медицинская академия, 194100 Санкт-Петербург, Россия + Московский государственный университет им. М.В.Л ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Влияние эрбия на электрические и фотоэлектрические свойства аморфного кремния, полученного высокочастотным разложением силана

Теруков Е.И., Казанин М.М., Коньков О.И., Кудоярова В.Х., Коугия К.В., Никулин Ю.А., Казанский А.Г.

Теруков Е.И., Казанин М.М., Коньков О.И., Кудоярова В.Х., Коугия К.В., Никулин Ю.А., Казанский А.Г. Влияние эрбия на электрические и фотоэлектрические свойства аморфного кремния, полученного высокочастотным разложением силана // ФТП, 2000, том 34, выпуск 7, Стр. 861

Аннотация Эрбий был введен в аморфный гидрогенизированный кремний, полученный высокочастотным разложением силана, за счет термического испарения TRIS (2,2,6,6тетраметил--2.5гептадионато) Er(III) внутри плазменного промежутка. Полученные образцы обладали выраженной слоистой структурой вследствие истощения источника эрбия: ближайший к подложке, обогащенный эрбием, кислородом и углеродом слой контролировал люминесценцию с длиной волны 1.535 мкм, характерную для внутри атомных переходов эрбия 4I13/2-> 4I15/2, и содержал значительное число дефектов. Верхний слой был значительно менее дефектным и по своим фотоэлектрическим характеристикам приближался к нелегированному a-Si : H и контролировал фотопроводимость полученных образцов. Экспериментальные данные проанализированы в рамках моделей легирования a-Si : H эрбием с образованием проводимости n-типа и формирования гетероперехода по мере роста пленки.