Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2000-00-00 ОрганизацияИнститут кибернетики Академии наук Грузии, 380086 Тбилиси, Грузия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Исследование структуры Al--Ge3N4--Ge методом фото-вольт-фарадных характеристик
Джанелидзе Р.Б., Джанелидзе М.Б., Кациашвили М.Р.
Джанелидзе Р.Б., Джанелидзе М.Б., Кациашвили М.Р. Исследование структуры Al--Ge3N4--Ge методом фото-вольт-фарадных характеристик // ФТП, 2000, том 34, выпуск 10, Стр. 1234
Аннотация Представлены результаты исследования границы раздела германий--нитрид германия (Ge--Ge3N4) методом вольт-фарадных характеристик при облучении структуры фотонами разной энергии. Примененная методика позволила определить уровни ловушек в нитриде германия, глубина залегания этих уровней составляет 0.75, 0.89 и 3.0 эВ. При исследовании токопрохождения через структуру Ge--Ge3N4 найдено два уровня в Ge3N4 с глубиной залегания 0.75 и 0.87 эВ.

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален