Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2000-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия *Московский государственный технологический университет "Станкин", 101472 Москва, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Нанорельеф поверхности GaN: влияние сульфидной обработки
Бессолов В.Н., Жиляев Ю.В., Заварин Е.Е., Компан М.Е., Коненкова Е.В., Усиков А.С., Федирко В.А.
Бессолов В.Н., Жиляев Ю.В., Заварин Е.Е., Компан М.Е., Коненкова Е.В., Усиков А.С., Федирко В.А. Нанорельеф поверхности GaN: влияние сульфидной обработки // ФТП, 2000, том 34, выпуск 11, Стр. 1353
Аннотация Атомно-силовая микроскопия и фотолюминесценция использованы для изучения нанорельефа поверхности GaN(0001), обработанной в растворах сульфида натрия. Показано, что после сульфидной обработки мелкомасштабный рельеф поверхности слоя существенно сглаживается.

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален