Профиль » Публикация
Опубликовано
2001-00-00
ОрганизацияНаманганский государственный университет, 716019 Наманган, Узбекистан
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Влияние внешних воздействий на фотоэлектрические параметры аморфного гидрированного кремния взависимости отисходных характеристик пленок
Рахимов Н., Бабаходжаев У., Мавлянов Х., Икрамов Р. Влияние внешних воздействий на фотоэлектрические параметры аморфного гидрированного кремния взависимости отисходных характеристик пленок // ФТП, 2001, том 35, выпуск 8, Стр. 985
Аннотация
Проведены исследования влияния вакуумных отжигов, имплантации ионовSi+ и облучения светом на фотоэлектрические параметры пленок a-Si : H. Показана решающая роль исходных характеристик пленок для эффекта кристаллизации, а также для проявления эффекта Стаблера--Вронского.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален