Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2001-00-00 ОрганизацияМосковский государственный университет им.М.В.Ломоносова (физический факультет), 119899 Москва, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Численный расчет температурных зависимостей фотопроводимости a-Si : H p-типа
Кузнецов С.В.
Кузнецов С.В. Численный расчет температурных зависимостей фотопроводимости a-Si : H p-типа // ФТП, 2001, том 35, выпуск 10, Стр. 1244
Аннотация Представлены результаты численного расчета температурных зависимостей фотопроводимости a-Si : H p-типа. Расчеты были выполнены для простой рекомбинационной модели, учитывающей при низких температурах туннельную рекомбинацию между электронами, захваченными на состояния хвоста зоны проводимости, и дырками, захваченными на состояния хвоста валентной зоны. Результаты расчета согласуются с экспериментальными данными, согласно которым фотопроводимость a-Si : H p-типа слабо зависит от положения уровня Ферми и от полной концентрации оборванных связей. Проведенное компьютерное моделирование позволяет заключить, что возможной причиной такой слабой зависимости является разная "протяженность" хвостов валентной зоны и зоны проводимости. Показано, что в a-Si : H p-типа в условиях освещения статистика заполнения состояний в щели подвижности существенно отличается от равновесной.

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален