Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2002-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Фотопроводимость пленок наноструктурированного гидрированного кремния
Голикова О.А.
Голикова О.А. Фотопроводимость пленок наноструктурированного гидрированного кремния // ФТП, 2002, том 36, выпуск 6, Стр. 730
Аннотация Приводятся данные о фотопроводимости пленок наноструктурированного гидрированного кремния, полученных различными методами, в зависимости от положения уровня Ферми, плотности дефектов и типа Si--H-связей. Определено влияние имплантации ионов Si+ на фотопроводимость и другие параметры пленокa-Si : H.

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален