Профиль » Публикация
Опубликовано
2002-00-00
ОрганизацияФизико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Фотопроводимость пленок наноструктурированного гидрированного кремния
Голикова О.А. Фотопроводимость пленок наноструктурированного гидрированного кремния // ФТП, 2002, том 36, выпуск 6, Стр. 730
Аннотация
Приводятся данные о фотопроводимости пленок наноструктурированного гидрированного кремния, полученных различными методами, в зависимости от положения уровня Ферми, плотности дефектов и типа Si--H-связей. Определено влияние имплантации ионов Si+ на фотопроводимость и другие параметры пленокa-Si : H.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален