Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2002-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Метастабильные состояния нелегированного аморфного гидрогенизированного кремния, создаваемые gamma -облучением

Аблова М.С., Куликов Г.С., Першеев С.К.

Аблова М.С., Куликов Г.С., Першеев С.К. Метастабильные состояния нелегированного аморфного гидрогенизированного кремния, создаваемые gamma -облучением // ФТП, 2002, том 36, выпуск 8, Стр. 1001

Аннотация Проводимость собственного аморфного гидрогенизированного кремния (a-Si : H) после gamma-облучения возрастает. Этот эффект обусловлен увеличением количества метастабильных состояний D+ в щели подвижности. Проводимость несобственного (нелегированного) облученного a-Si : H уменьшается. Вероятно, что gamma-облучение создает в этом материале комплексы, включающие водород. Обсуждается сравнение этих результатов с известными данными для a-Si : H, легированного B или P.