Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2004-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия * Университет Дублина, Тринити Колледж, Дублин2, Ирландия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Технология создания рисунка в макропористом кремнии и получение полос двумерных фотонных кристаллов с вертикальными стенками

Астрова Е.В., Боровинская Т.Н., Толмачев В.А., Перова Т.С.

Астрова Е.В., Боровинская Т.Н., Толмачев В.А., Перова Т.С. Технология создания рисунка в макропористом кремнии и получение полос двумерных фотонных кристаллов с вертикальными стенками // ФТП, 2004, том 38, выпуск 9, Стр. 1125

Аннотация Сообщается о новом процессе получения структур с вертикальными стенками в толстом слое макропористого кремния на подложке. Проблема фотолитографии решается путем создания рисунка с обратной стороны пластины. Врезультате кремниевая подложка сама служит маской, через которую удаляются определенные участки пористого слоя. Изготовлены узкие и высокие полоски макропористого кремния, ориентированные вдоль рядов макропор. Полученные структуры двумерного фотонного кристалла использовались для введения света в направлении, перпендикулярном оси каналов, и регистрации ИК спектров отражения.