Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2004-00-00 ОрганизацияИнститут материаловедения Дальневосточного отделения Российской академии наук, 680042 Хабаровск, Россия * Институт электронной технологии, 02-668 Варшава, Польша + Институт физики Польской академии наук, 02-668 Варшава, Польша ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Влияние давления и водорода на образование вакансий идивакансий вкристаллическом кремнии

Заводинский В.Г., Гниденко А.А., Мисюк А., Бак-Мисюк Я.

Заводинский В.Г., Гниденко А.А., Мисюк А., Бак-Мисюк Я. Влияние давления и водорода на образование вакансий идивакансий вкристаллическом кремнии // ФТП, 2004, том 38, выпуск 11, Стр. 1281

Аннотация Методами теории функционала электронной плотности и псевдопотенциала исследовано влияние водорода и давления на формирование вакансий и дивакансий в кремнии. Показано, что в присутствии водорода энергия формирования вакансий может снижаться на величину от1.8 до 3.5 эВ, а энергия формирования дивакансий на величину от2 до5.4 эВ, и становится возможным спонтанное возникновение вакансий и их комплексов при высоких концентрациях водорода. Вместе с тем наличие водорода делает кремний менее чувствительным к давлению и при больших концентрациях может полностью подавить тенденцию дополнительного образования вакансий под действием давления.