Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2004-00-00 ОрганизацияУжгородский национальный университет, 88000 Ужгород, Украина ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Влияние модификационного нанослоя висмута наперенос заряда вгетероструктурах Sb-Si(n)-Bi-Ge33As12Se55-Sb
Кондрат А.Б., Попович Н.И., Довгошей Н.И.
Кондрат А.Б., Попович Н.И., Довгошей Н.И. Влияние модификационного нанослоя висмута наперенос заряда вгетероструктурах Sb-Si(n)-Bi-Ge33As12Se55-Sb // ФТП, 2004, том 38, выпуск 11, Стр. 1339
Аннотация Исследовались вольт-амперные характеристики гетероструктур Sb-Si(n)-Ge33As12Se55-Sb и Sb-Si(n)-Bi-Ge33As12Se55-Sb. Установлено, что наличие атомов висмута в переходной области приводит к увеличению тока, протекающего через структуру. Область объемного заряда, а соответственно и величина проникновения контактного поля в p-область лежат в пределах 0.2-0.5 мкм. Введение модификационного слоя висмута также приводит к качественным изменениям вольт-амперной характеристики, что свидетельствует об изменении механизма переноса носителей заряда в структуре. Введение нанослоя Bi обусловливает переход от резкого гетероперехода к плавному. В структурах с модифицированным переходным слоем наблюдается отсутствие мягкого пробоя. Мягкий пробой наблюдается при обратном смещении, причем напряжение отсечки~0.62 В отвечает барьеру для электронов0.65 эВ.

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален