Профиль » Публикация
Опубликовано
2005-00-00
ОрганизацияИнститут физики микроструктур Российской академии наук, 603950 Нижний Новгород, Россия
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Гетероструктуры InGaAs/GaAs с квантовыми точками дляинфракрасных фотоприемников диапазона 3-5 мкм
Антонов А.В., Гапонова Д.М., Данильцев В.М., Дроздов М.Н., Молдавская Л.Д., Мурель А.В., Туловчиков В.С., Шашкин В.И. Гетероструктуры InGaAs/GaAs с квантовыми точками дляинфракрасных фотоприемников диапазона 3-5 мкм // ФТП, 2005, том 39, выпуск 1, Стр. 96
Аннотация
Исследованы особенности формирования квантовых точек InAs методом металлорганической газофазной эпитаксии в зависимости от времени роста или эквивалентной толщины слоя InAs. Методами просвечивающей электронной микроскопии и фотолюминесценции показано, что увеличение времени роста квантовых точек в матрице GaAs приводит к изменению не только их размеров, но и формы--- увеличивается отношение вертикальных и латеральных размеров. Изготовлены многослойные селективно-легированные структуры InGaAs/GaAs с квантовыми точками, и проведено исследование инфракрасной фотопроводимости в продольной и вертикальной геометрии электонного транспорта. Врежиме нормального падения излучения наблюдалась внутризонная фотопроводимость в среднем инфракрасном диапазоне (2.5-5 мкм) до температуры110 K.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален