Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2005-00-00 ОрганизацияИнститут радиотехники и электроники Российской академии наук, 141190 Фрязино, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Повышение темпа идискретизация кинетики изотермической поверхностной генерации неосновных носителей заряда вструктурах металл--диэлектрик--полупроводник спланарно-неоднородным диэлектриком
Ждан А.Г., Гольдман Е.И., Гуляев Ю.В., Чучева Г.В.
Ждан А.Г., Гольдман Е.И., Гуляев Ю.В., Чучева Г.В. Повышение темпа идискретизация кинетики изотермической поверхностной генерации неосновных носителей заряда вструктурах металл--диэлектрик--полупроводник спланарно-неоднородным диэлектриком // ФТП, 2005, том 39, выпуск 6, Стр. 697
Аннотация Поверхностная генерация неосновных носителей заряда в кремниевых МОП структурах эффективна лишь на начальной безрекомбинационной стадии. За время t~ 10-5 с устанавливается квазиравновесие между центрами поверхностной генерации и зоной неосновных носителей заряда, и в отсутствие иных каналов генерации носителей равновесное состояние инверсии при 300 K установилось бы в течение t=tбесконечность>103 лет. Реально времяtбесконечность намного меньше вследствие рождения неравновесных носителей через центры, локализованные на гетерогранице SiO2/Si по периферии затвора. Краевую генерацию просто имитировать в МОП структуре с единым затвором, изолированным от Si слоями окисла различной толщины. При обедняющих потенциалах затвора Vg роль периферии играет мелкая потенциальная яма под более толстым окислом, а кинетика тока генерации I(t) становится необычной: на зависимостях I(t) наблюдаются две дискретных ступеньки, длительность и высота которых--- функцииVg. Анализ кривых I(t) позволяет определять электронные характеристики поверхностиSi в состояниях начального обеднения (t=0) и равновесной инверсии (t=tбесконечность), а также параметры центров поверхностной инерции, включая их энергетическое и пространственное распределения. Функционально специализированная планарная неоднородность подзатворного изолятора--- перспективная основа динамических сенсоров с интегрирующими и пороговыми свойствами.

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален