Профиль » Публикация
Опубликовано
2006-00-00
ОрганизацияИнститут физической химии и электрохимии им.А.Н.Фрумкина Российской академии наук, 119071 Москва, Россия * Физико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Интеркаляция лития в тонкие пленки аморфного кремния
Кулова Т.Л., Скундин А.М., Плесков Ю.В., Коньков О.И., Теруков Е.И., Трапезникова И.Н. Интеркаляция лития в тонкие пленки аморфного кремния // ФТП, 2006, том 40, выпуск 4, Стр. 473
Аннотация
Исследована электрохимическая интеркаляция лития в тонкие пленки a-Si : H, полученные при температурах100 и250oC на подложках из нержавеющей стали. Интеркаляционная емкость пленок, полученных при 250oC, составляет~1750 и~500 мА·ч/г впервом и сотом циклах. Коэффициент диффузии лития в пленках составляет~10-12 см2/с. PACS: 82.47.Aa, 66.30.Qa, 73.740.Mn, 66.30.Jt
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален