Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2006-00-00 ОрганизацияСанкт-Петербургский государственный электротехнический университет \glqq ЛЭТИ\grqq, 197376 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Влияние кислорода насегрегационное перераспределение редкоземельных элементов ваморфизованных имплантацией слоях кремния
Александров О.В.
Александров О.В. Влияние кислорода насегрегационное перераспределение редкоземельных элементов ваморфизованных имплантацией слоях кремния // ФТП, 2006, том 40, выпуск 8, Стр. 903
Аннотация Развита модель сегрегационного перераспределения примесей редкоземельных элементов при твердофазной эпитаксиальной кристаллизации слоев кремния, аморфизованных имплантацией. Воснове модели лежит образование на межфазной границе со стороны a-Si переходного слоя с высокой подвижностью атомов, ширина которого определяется диффузионной длиной вакансий в a-Si. Врамках модели проанализированы концентрационные профили Er в кремнии при его соимплантации с кислородом. Показано, что при больших дозах имплантации редкоземельных ионов необходимо учитывать образование кластеров Rm (m=4), где R--- атом редкоземельного элемента, а при соимплантации ионов кислорода--- образование комплексов ROn (n=3-6), влияющих на ширину переходного слоя и коэффициент сегрегации. PACS: 61.72.Cc, 61.72.Ji, 61.72.Tt, 66.30.Jt, 64.75+g

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален