Михаил Лебедев » Публикация

Аннотация Показана возможность применения метода эллипсометрии для исследования оптических свойств многослойных пленок и структур. Исследованы оптические свойства структур HfO2/SiO2/Si, HfO2/Si, ZrO2/Si, Ta2O5/Si, Al2O3/Si. Установлено, что на границе раздела пленки HfO2 с Si образуется слой силиката гафния. Отжиг структур в атмосфере кислорода показал, что исследуемые оксиды проницаемы для диффузии кислорода, и в процессе отжига происходит увеличение толщины SiO2 на границе раздела пленка-подложка. Скорость роста слоя SiO2 зависит от химической природы оксида. Пленки Al2O3 не проницаемы для диффузии кислорода. Оптимизирован процесс получения слоев твердых растворов (HfO2)x(Al2O3)1-x, позволяющий получать слои с однородным распределением элементов по толщине.