Профиль » Публикация

Аннотация В данной работе, на основе алгоритмов моделирования нагрева пластин кремния в процессе фотонного отжига и алгоритмов моделирования коэффициента радиационно – ускоренной диффузии разработаны алгоритмы перераспределения примеси в ионно – легированных слоях при фотонном отжиге. Проведен численный эксперимент по определению степени перераспределения внедренной примеси, в случае проведения процессов подлегирования каналов интегральных МДП транзисторов и формирования эмиттера быстродействующих СБИС.