Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 1998-00-00 ОрганизацияТомский политехнический университет, 634004 Томск, Россия ЖурналЖурнал Технической Физики

Негомогенное распределение поглощенной энергии в высокоомных материалах при воздействии импульсного электронного пучка

Штанько В.Ф., Глыбин В.Г., Толмачев В.М.

Штанько В.Ф., Глыбин В.Г., Толмачев В.М. Негомогенное распределение поглощенной энергии в высокоомных материалах при воздействии импульсного электронного пучка // ЖТФ, 1998, том 68, выпуск 4, Стр. 53

Аннотация Приведены экспериментальные результаты изменения оптических характеристик фторида лития после воздействия на него пучком электронов переменной плотности с энергией импульса близкой к порогу разрушения материала. Исследовано пространственное распределение центров окраски, в частности, вблизи каналов пробоя. Обсуждаются механизмы неоднородного накопления дефектов и основные причины, определяющие негомогенное распределение энергии при воздействии сильноточного электронного пучка. Приведены конкретные результаты расчета распределения напряженности поля в кристалле LiF в процессе облучения в модели "однородного" и неоднородного заряжения образца. Показано, что вблизи канала пробоя наблюдается резкое увеличение напряженности электрического поля.