Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 1998-00-00 ОрганизацияИнститут физики АН Украины, 252650 Киев, Украина ЖурналЖурнал Технической Физики

Температурная стабильность и лучевая прочность голографических решеток на фотополимерных материалах

Смирнова Т.Н., Сахно О.В., Стрелец И.А., Тихонов Е.А.

Смирнова Т.Н., Сахно О.В., Стрелец И.А., Тихонов Е.А. Температурная стабильность и лучевая прочность голографических решеток на фотополимерных материалах // ЖТФ, 1998, том 68, выпуск 6, Стр. 105

Аннотация Представлены результаты исследований температурной зависимости дифракционной эффективности и лучевой прочности объемных фазовых голограмм --- решеток пропускающего типа. Обратимые дифракционные эффективности описываются диаграммами фазового равновесия системы полимер--диффузант. Лучевая прочность исследованных голограмм-решеток определяется порогами фототермолитического распада используемого диффузанта --- бромнафталина. Изучены композиции, содержащие диффузанты с высокими порогами процессов фотолиза и термолиза. В результате предложены модификации фотополимерной регистрирующей среды с лучевой прочностью более 200 MW/cm2.