Профиль » Публикация
Опубликовано
1998-00-00
ОрганизацияИнститут ядерной физики СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия
ЖурналЖурнал Технической Физики
Параметры плазмы разрядов поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов водорода
Анциферов В.В. Параметры плазмы разрядов поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов водорода // ЖТФ, 1998, том 68, выпуск 10, Стр. 32
Аннотация
Определены основные параметры плазмы сильноточных тлеющих водородно-цезиевых разрядов поверхностно-плазменных (планотронного и пеннинговского) источников отрицательных ионов водорода при использовании бесконтактных спектроскопических методов и проведено их сравнение при одинаковых плотностях тока разряда. Установлен элементный и зарядовый состав плазмы. Измерены температура атомов водорода и энергия излучения плазмы разряда в видимом диапазоне спектра, сделаны оценки плотности электронов в плазме. Прослежено в динамике изменение параметров плазмы разряда пеннинговского источника: плотности атомов водорода, атомов и ионов цезия и атомов молибдена в течение разрядного импульса с пространственным разрешением по двум координатам. Обнаружено запирание атомов и ионов цезия и атомов молибдена у катодной поверхности.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален