Профиль » Публикация

Аннотация Сообщаются результаты исследования процесса формирования вольфрамовых игольчатых микрозондов под действием ионной бомбардировки в сильных электрических полях и последующего низкотемпературного полевого испарения. Обнаружена немонотонность изменения скорости возрастания плотности тока в процессе облучения, связанная с наличием в составе потока бомбардирующих ионов тяжелых частиц материала эмиттера, образующихся в результате его распыления. Показано, что в процессе бомбардировки первоначально полусферическая рабочая часть зондов трансформируется в осесимметричную поверхность сложной конфигурации. Обсуждена связь наблюдавшихся эффектов с особенностями протекания процессов ионизации атомов инертных газов и распыления атомов вольфрама в сверхплотных электронных пучках. Микрозонды с атомногладкой поверхностью, формируемой в процессе ионной бомбардировки и полевого испарения, обнаруживали высокую стабильность и обеспечивали атомное разрешение на тест-объектах.