Профиль » Публикация

Аннотация Проанализирована возможность получения однородной плазмы в разрядах низкого давления с полым катодом и полым анодом. Показано, что в отличие от разрядов высокого давления, в которых для формирования однородной плазмы необходима равномерная ионизация, в разрядах низкого давления близкий к однородному радиальный плазменный профиль получается при наличии неоднородной ионизации с повышенной вероятностью на периферии системы и пониженной вблизи оси. Показано, что использование магнитных полей может быть фактором, способствующим, а не препятствующим генерации однородной плазмы.