Профиль » Публикация
Опубликовано
1997-00-00
ОрганизацияИнститут физики металлов Уральского отделения Российской академии наук, 620219 Екатеринбург, Россия
ЖурналЖурнал "Физика Твердого Тела"
Влияние донор-донорного взаимодействия на переход металл--изолятор в легированных полупроводниках
Михеев В.М. Влияние донор-донорного взаимодействия на переход металл--изолятор в легированных полупроводниках // ФТТ, 1997, том 39, выпуск 11, Стр. 1985
Аннотация
Рассмотрен моттовский переход металл--изолятор (МИ) в слабо компенсированных полупроводниках с простым законом дисперсии (типа InSb). Проведено микроскопическое описание перехода МИ в условиях, когда в окрестности перехода примесная зона перекрыта с зоной проводимости, а уровень Ферми расположен в зоне проводимости. Из условия минимума внутренней энергии системы электронов и доноров показано, что учет донор-донорного взаимодействия приводит к стабилизации промежуточного состояния, в котором доноры ионизованы частично. Показано, что в некотором интервале концентраций доноров, близки к критическому значению, магнитное поле, подавляя ван-дер-ваальсовские взаимодействия нейтральных доноров, индуцирует переход из диэлектрической фазы в металлическую. Проводится параллель с аналогичными эффектами в сильно компенсированных полупроводниках (переход Андерсона), связанными с эффектами слабой локализации.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален