Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2003-00-00 ОрганизацияИнститут проблем машиноведения Российской академии наук, 199178 Санкт-Петербург, Россия E-mail:&nbsp;ovidko@def.ipme.ru ЖурналЖурнал "Физика Твердого Тела"

Кинетика точечных дефектов ипроцессы аморфизации втонких пленках при облучении

Овидько И.А., Рейзис А.Б.

Овидько И.А., Рейзис А.Б. Кинетика точечных дефектов ипроцессы аморфизации втонких пленках при облучении // ФТТ, 2003, том 45, выпуск 9, Стр. 1600

Аннотация Предложена теоретическая модель для описания эволюции ансамбля точечных дефектов (вакансий и межузельных атомов) и ее влияния на процессы твердофазной аморфизации в облучаемых кристаллических тонких пленках. Предлагаются уравнения кинетики точечных дефектов в облучаемых тонких пленках в случае отсутствия ионной имплантации. С помощью численного решения данного кинетического уравнения проведен расчет температурной зависимости \glqq дозы начала аморфизации\grqq, которая сравнивается с соответствующими экспериментальными данными. Настоящая работа выполнена при частичной поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 01-02-16853) и программы \glqq Интеграция\grqq (грант Б0026).