Профиль » Публикация
Опубликовано
2004-00-00
ОрганизацияМосковский государственный институт стали и сплавов (Технологический университет), 119049 Москва, Россия
ЖурналЖурнал "Физика Твердого Тела"
Легирование TiAl ванадием: исследование изпервых принципов
Смирнова Е.А., Исаев Э.И., Векилов Ю.Х. Легирование TiAl ванадием: исследование изпервых принципов // ФТТ, 2004, том 46, выпуск 8, Стр. 1345
Аннотация
Степень тетрагональности в TiAl и влияние на нее легирования ванадием исследованы с применением методов расчета, основанных на приближении когерентного потенциала и ab initio псевдопотенциалов. Показано, что замещение атомов подрешетки Ti ванадием приводит к росту степени тетрагональности, но при замещении атомов в алюминиевой подрешетке тетрагональность сплава TiAl : V уменьшается и при содержании ванадия около 8 at.% решетка становится практически кубической. Это в свою очередь может привести к повышению пластичности TiAl, хрупкого при низких температурах. Работа выполнена при финансовой поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 03-02-16970) и Королевской Шведской академии наук.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален