Профиль » Публикация
Опубликовано
1997-00-00
ОрганизацияИнститут микроэлектроники Российской академии наук, 150007 Ярославль, Россия
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Изменение оптических свойств пористого кремния вследствии термического отжига в вакууме
Киселев В.А., Полисадин С.В., Постников А.В. Изменение оптических свойств пористого кремния вследствии термического отжига в вакууме // ФТП, 1997, том 31, выпуск 7, Стр. 830
Аннотация
Определены оптические константы слоев пористого кремния в диапазоне 600/800 нм и исследовано влияние на них термического отжига в вакууме. Изменение комплексного показателя преломления связано с десорбцией реагентов и продуктов электрохимической обработки кремния. Установлено, что при нагреве до 600 oC температурный коэффициент изменения отражения слоя пористого кремния на длине волны 633 нм не превышает 10-6.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален