Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 1998-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Влияние отжига ватмосфере атомарного водорода на свойства пленок аморфного гидрированного кремния ипараметры p-i-n-структур наихоснове

Мездрогина М.М., Абрамов А.В., Мосина Г.Н., Трапезникова И.Н., Пацекин А.В.

Мездрогина М.М., Абрамов А.В., Мосина Г.Н., Трапезникова И.Н., Пацекин А.В. Влияние отжига ватмосфере атомарного водорода на свойства пленок аморфного гидрированного кремния ипараметры p-i-n-структур наихоснове // ФТП, 1998, том 32, выпуск 5, Стр. 620

Аннотация Уменьшение концентрации оборванных кремний-кремниевых связей в пленках a-Si : H в результате отжига в атмосфере атомарного водорода определяется концентрацией их в исходной (неотожженной) пленке. Изменение суммарной концентрации водорода в пленках a-Si : H, подвергнутых отжигу в атмосфере атомарного водорода, определяется типом кремний-водородных связей, содержанием примесей: при наличиии моногидридных связей (2020 см-1) возможно уменьшение содержания водорода до 1 at.%, при наличии кислорода (=<sssim0.1 at.%) изменения содержания водорода не наблюдается. Уменьшение концентрации дефектов в результате отжига в атмосфере атомарного водорода наблюдается для всех пленок. Эффект Стаблера--Вронского--- облучение светом АМ-1 в течение 10 ч наблюдается для всех пленок вне зависимости от суммарной концентрации водорода, типа кремний-водородных связей, наличия кислорода.