Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 1998-00-00 ОрганизацияНижегородский государственный университет им. Н.И.Лобачевского, 603600 Нижний Новгород, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Немонотонный характер зависимости сопротивления пленок поликристаллического кремния оттемпературы роста

Шенгуров Д.В., Павлов Д.А., Шабанов В.Н., Шенгуров В.Г., Хохлов А.Ф.

Шенгуров Д.В., Павлов Д.А., Шабанов В.Н., Шенгуров В.Г., Хохлов А.Ф. Немонотонный характер зависимости сопротивления пленок поликристаллического кремния оттемпературы роста // ФТП, 1998, том 32, выпуск 5, Стр. 627

Аннотация Исследовано влияние температуры подложки Ts на слоевое сопротивление Rs для пленок поликристаллического Si, полученных методом молекулярно-лучевого осаждения. Обнаружен немонотонный характер зависимости Rs от Ts для пленок, легированных разными примесями в процессе осаждения. Предложено объяснение полученным экспериментальным результатам на основе модифицированной модели Сетто.